btx 47-0003說明書

BTXPRESS CYTOPORATION LOW CONDUCTIVITY MEDIUM T4, 500 ML VOLUME

btxpress細胞培養(yǎng)低導(dǎo)電介質(zhì)t4,500毫升體積

先進的電穿孔緩沖液設(shè)計用于BTX AgilePulse MAX大容量電穿孔系統(tǒng)，用于離體或體外遞送DNA，RNA，寡核苷酸和siRNA

BTXpressCactoporation®MediaT4是一種先進的電穿孔緩沖液，設(shè)計用于BTX AgilePulse MAX大容量電穿孔系統(tǒng)，用于離體或體外遞送DNA，RNA，寡核苷酸和siRNA。低電導(dǎo)率緩沖液經(jīng)過特殊配方，可大限度地減少大體積電穿孔過程中溶液的加熱，從而實現(xiàn)高轉(zhuǎn)染效率和高細胞活力。BTXpress Cytoporation Media T4從高質(zhì)量的非動物醫(yī)用級試劑中無菌過濾。兩種具有不同電導(dǎo)率的制劑可用于每種真核細胞類型的宜電導(dǎo)率?？梢詫⒕彌_液直接稀釋在*生長培養(yǎng)基中用于電穿孔后細胞培養(yǎng)。

特點與優(yōu)勢

• 針對真核電穿孔應(yīng)用進行了優(yōu)化
• 高轉(zhuǎn)染效率，高細胞活力
• 低電導(dǎo)率意味著小的加熱或電極電弧
• 提供兩種配方
• 生理pH和平衡的滲透壓
• 不含動物產(chǎn)品
• 經(jīng)過認證的RNase和DNase免費

存儲信息

打開后儲存在2-8°C。在-20°C至+ 50°C下短期儲存（即運輸）7天是可以接受的。內(nèi)容可能在凍結(jié)后分開。如果冷凍，請在使用前充分混合。

建議使用

建議使用標準的無菌技術(shù)，以避免在使用過程中受到污染。*，反復(fù)洗凈。BTXpressCytofusion®MediumC是一種低電導(dǎo)率培養(yǎng)基，專為電融合而設(shè)計。痕量的高電導(dǎo)率溶液如PBS或組織培養(yǎng)生長培養(yǎng)基可破壞融合過程。因此，在融合過程之前用BTXpressCytofusion®MediumC*清洗細胞至關(guān)重要。對于多5 x 107個細胞，建議在BTXpressCytofusion®培養(yǎng)基C中至少洗滌兩次。對于超過5 x 107個細胞，建議至少洗滌三次。

*清潔電融合室。為避免其他離子污染源，每次使用后清潔電熔室，并用無菌去離子水*沖洗。

為了大限度地提高細胞融合效率，請在室溫下使用BTXpressCytofusion®MediumC. 終洗滌之前的細胞洗滌可以在4℃下進行。雖然Cytofusion®MediumC無毒，但它不含有長期支持細胞活力的營養(yǎng)素。為獲得宜效果，請盡量減少細胞懸浮于BTXpressCytofusion®培養(yǎng)基C中的時間。不建議將細胞保留在BTXpressCytofusion®MediumC中，后一次洗滌后超過1小時。

電融合后，BTXpressCytofusion®培養(yǎng)基中的細胞可在細胞培養(yǎng)基中稀釋，無需洗滌細胞。將五份*培養(yǎng)基稀釋至一份BTXpressCytofusion®MediumC的低稀釋度。或者，可以在生長培養(yǎng)基中洗滌細胞以在培養(yǎng)之前*除去BTXpress Cytofusion？培養(yǎng)基C.

警告和免責(zé)聲明

如果缺少防篡改密封或瓶子損壞，請勿使用。瓶子損壞或故意篡改可能會導(dǎo)致本產(chǎn)品受到污染。使用前檢查產(chǎn)品是否清晰。BTXpressCytofusion®培養(yǎng)基僅用于研究和研究目的。它不適合人類使用。根據(jù)OSHA危害通信標準29 CFR 1910.1200進行的評估，該產(chǎn)品不被視為危險品。

應(yīng)用 轉(zhuǎn)染